Válvula Dosadora com Controle Médio para Equipamento de Aspersão Plasma com Resistência a Alta Temperatura

Projetada para equipamentos de pulverização por plasma em aplicações de revestimento de metal e cerâmica, nossa Válvula Dosadora controla com precisão o fluxo do meio de pulverização para garantir a qualidade uniforme do revestimento. Projetada para suportar temperaturas extremas de até 300℃, a válvula apresenta um núcleo de cerâmica de zircônia e uma carcaça de cerâmica de alumina que resiste à degradação de arcos de plasma que excedem 10.000℃.

A válvula oferece uma precisão de fluxo excepcional de ±0,5% para uma espessura de revestimento consistente, variando de 50 a 500μm. Seu design inovador anti-sedimentação com micro-agitação integrada impede a sedimentação de pós de alta densidade, enquanto a compatibilidade com pistolas de pulverização por plasma padrão (corrente de 100-400A) e a ligação de pressão de gás (argônio, hidrogênio) otimizam a eficiência da pulverização para fabricantes de equipamentos de pulverização térmica.

• Controle de micro-fluxo (0,1-2mL/min) correspondente a uma saída de névoa de 100-500mL/h
• Estrutura de vedação dupla (silicone + EPDM) garantindo desempenho à prova de vazamentos de 0,3MPa
• Plástico ABS de qualidade alimentar, evitando o crescimento bacteriano em canais de água
• Design de baixa potência (1,5W) compatível com fontes de alimentação de umidificadores domésticos de 5V
• Suporta a ligação do sensor de umidade para ajuste automático do fluxo

Ideal para uso doméstico, proporcionando controle preciso e fácil instalação para ambientes aromáticos personalizados.